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LPCVD低壓化學氣相淀積設備 湯鍋爐 詳細摘要: LPCVD低壓化學氣相淀積設備式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低初橘,氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大验游,故可采用密集裝片...
產(chǎn)品型號: 所在地:青島市 更新時間:2023-04-19 參考價: 面議 在線留言
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詳細摘要: LPCVD低壓化學氣相淀積設備式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低初橘,氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大验游,故可采用密集裝片...
產(chǎn)品型號: 所在地:青島市 更新時間:2023-04-19 參考價: 面議 在線留言