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VTC-1RF-1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

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更新時(shí)間:2023-01-12 09:30:01瀏覽次數(shù):326次

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聯(lián)系人:廖勝眉

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)要描述:VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源矗寂,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜勇蝙。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索沫勿,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W (包括真空泵)

等離子源

  • 配有一13.5MHz,100W的射頻電源(采用手動(dòng)匹配)
  • 可選配300W射頻電源(自動(dòng)匹配)
  • 注意:100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF(射頻)電源價(jià)格較低味混,但是每一次對(duì)于不同的靶材产雹,都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體,比較耗費(fèi)時(shí)間翁锡。300W自動(dòng)匹配的RF(射頻)電源蔓挖,價(jià)格較昂貴,但比較節(jié)約時(shí)間馆衔。(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)

磁控濺射頭

  • 一個(gè)1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層)时甚,采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,大厚度3mm
  • 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10L/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16L/min的循環(huán)水冷機(jī))
  • 同時(shí)可選配2英寸濺射頭
  • 選配2英寸濺射頭靶材尺寸:直徑為50.8mm,大厚度6mm

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H哈踱,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作荒适,采用硅膠密封圈密封
  • 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體
  • 真空度:<1.0×10-2 Torr (采用雙極旋片真空泵)

<5×10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺(tái)

  • 載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm (大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
  • 樣品臺(tái)的MAX加熱溫度為700℃(短期使用开镣,恒溫不超過(guò)1小時(shí))刀诬,長(zhǎng)期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

我公司有多種真空泵可選,請(qǐng)點(diǎn)擊圖片常籍,或是致電我公司銷售

薄膜測(cè)厚儀

  • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上健吃,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å
  • LED顯示屏顯示锨圣,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

  • 一年質(zhì)保期陕绢,終生維護(hù)
  • CE認(rèn)證

外形尺寸

使用注意事項(xiàng)

  • 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣骗采,建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗2-3次闯揪,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請(qǐng)用純度大于5N的Ar來(lái)進(jìn)行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水词趾,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后避某,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)



關(guān)鍵詞:真空泵 測(cè)厚儀

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