1200℃真空井式坩堝爐是由石英坩堝或者氧化爐坩堝挟阻，和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐琼娘。工作溫度區(qū)間800℃至1200℃。該系列設備的控制系統(tǒng)具有安全可靠附鸽，操作簡單脱拼，控溫精度高，保溫效果好坷备，爐膛溫度均勻性高熄浓，可通氣氛抽真空等特點，廣泛應用于高等院校省撑，科研院所赌蔑，工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)。 真空井式坩堝爐以進口含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件竟秫，采用雙層殼體結(jié)構和智能化程序控溫系統(tǒng)娃惯，移相觸發(fā)跷乐、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料罗迎，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)泊宴，能快速升降溫，具有真空裝置秒足，該爐具有溫場均衡钱图、表面溫度低、升降溫度速率快寿伊、節(jié)能等優(yōu)點撩怀。

1200℃真空井式坩堝爐主要用途：高校、科研院所越匕、工礦企業(yè)主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物氛侨，退火或擴散半導體晶片，也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等煎敢。

1200℃真空井式坩堝爐技術參數(shù)