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上海和呈儀器制造有限公司


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HMDS烘箱系列

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產品型號HMDS系列

品       牌

廠商性質生產商

所  在  地

聯(lián)系方式：范小姐查看聯(lián)系方式

更新時間：2022-09-19 15:28:55瀏覽次數(shù)：752次

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經營模式：生產廠家

商鋪產品：110條

所在地區(qū)：上海上海

聯(lián)系人：范小姐 （銷售）

產品簡介

HMDS烘箱特點：在半導體生產工藝中味专，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)雌她，涂膠質量直接影響到光刻的質量透汞，涂膠工藝也顯得尤為重要

詳細介紹

HMDS烘箱特點：
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)政用，涂膠質量直接影響到光刻的質量薄肉，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的倘灸，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的某亩，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差笋熬，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處腻菇，容易造成漂條胳螟、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗筹吐，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕糖耸。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況

HMDS烘箱特點：
1、HMDS烘箱機外殼采用不銹鋼SUS304材質制造丘薛，內膽為不銹鋼316L材料制成嘉竟；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置洋侨。鋼化舍扰、雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。
2希坚、烘箱箱門閉合松緊能調節(jié)边苹，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度裁僧。
3犀进、微電腦智能控溫儀，具有設定织扰，測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能膊节，控溫精確，可靠率肉。
4原拉、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序，溫度剑三，真空度及每一程序時間堵套。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計矩汪，真空箱密封性能佳端皮，確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6拒凝、整個系統(tǒng)采用優(yōu)質材料制造腰凫，無發(fā)塵材料，適用100 級光刻間凈化環(huán)境牢裳。

HMDS烘箱技術參數(shù)：
電源電壓：AC 380V±10%/50Hz±2%
輸入功率：4000W
控溫范圍：室溫+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：±0.5℃
達到真空度：133Pa
容積：210L
工作室尺寸（mm）：560*640*600
外形尺寸（mm）：720*820*1050
載物托架：3塊
時間單位：分鐘
選配件
真空泵：德國品牌逢防，萊寶“DC”雙極系列旋片式油泵，極限真空高，噪音低忘朝，運行穩(wěn)定灰署。連接管：不銹鋼波紋管，*密封將真空泵與烘箱連接局嘁。

HMDS烘箱的必要性：
    在半導體生產工藝中溉箕，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量悦昵，涂膠工藝也顯得尤為重要约巷。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的旱捧，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差独郎，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處枚赡，容易造成漂條氓癌、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗蛹拜，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕她蛉。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后慰颊，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物赚兰。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合辱折，起著偶聯(lián)劑的作用郎石。

HMDS烘箱的原理：
       HMDS烘箱通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間财调、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片认吕、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角兔触，降低了光刻膠的用量沼昵，提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS烘箱的一般工作流程：
         先確定HMDS烘箱工作溫度审炬。典型的預處理程序為：打開真空泵抽真空极金，待腔內真牢度達到某一高真空度后，開始充人氮氣潮峦，充到達到某低真空度后囱皿，冉次進行抽真空、充入氮氣的過程跑杭，到達設定的充入氮氣次數(shù)后铆帽，開始保持一段時間咆耿，使硅片充分受熱德谅，減少硅片表面的水分爹橱。然后再次開始抽真空，充入HMDS氣體窄做，在到達設定時間后愧驱，停止充入HMDS藥液，進入保持階段椭盏，使硅片充分與HMDS反應组砚。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空掏颊。充入氮氣糟红，完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應機理如圖：先加熱到100℃-200℃锌褒，去除硅片表面的水分匣夭，然后HMDS與表面的OH一反應，在硅片表而生成硅醚勇湃，消除氫鍵作坝总，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應迅忙。

尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出兆距，排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理姆巨。

 

關鍵詞：PLC 真空泵

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